Sistema de Pulverização Catódica a Vácuo O Sistema de Pulverização Catódica de Alto Vácuo é uma máquina que deposita filmes finos metálicos e dielétricos sobre substratos de até 300 milímetros. O sistema utiliza fontes de pulverização catódica por magnetron alimentadas por radiofrequência, corrente contínua ou corrente contínua pulsada, funcionando em modo único ou em modo de codeposição. Uma estrutura modular permite instalação, transporte e manutenção simples. A carcaça é feita de aço laminado a frio com conformação de chapa metálica e acabamento por pintura a pistola, uma estrutura interna de alumínio e uma cobertura em acrílico cinza translúcido. A tela de controle segue princípios ergonômicos.

Nome do Projeto : Ultra High Vacuum Sputtering System, Nome dos designers : Yong Zhang, Nome do cliente : Huaiyin Institute of Technology & Liaoning Petrochemical University.